注入機離子源配件是離子注入機的關鍵構成部分,在半導體制造環(huán)節(jié)中發(fā)揮著重要作用,其性能表現(xiàn)會對離子注入效果產生影響,與芯片質量和生產效率存在關聯(lián),市場發(fā)展情況受到行業(yè)廣泛關注。
參考 SEMI 數據,2024 年全球離子注入設備市場規(guī)模達到 276 億元,預計 2030 年可增長至 307 億元 。隨著離子注入機市場規(guī)模擴大,離子源配件需求也相應增加。由于半導體產業(yè)對芯片性能要求不斷提高,先進制程工藝中離子注入步驟增多,對離子源配件性能、精度的標準也隨之提升,這在一定程度上推動了市場規(guī)模的增長。
在市場競爭層面,全球注入機離子源配件市場集中度較高。國際半導體產業(yè)協(xié)會數據顯示,2024 年 AMAT 在全球離子注入設備銷量市場份額占比為 62.65% 。AMAT 通過 RF 離子源實現(xiàn) 100mA 級束流穩(wěn)定性,在離子源配件市場占據優(yōu)勢。Axcelis 的 Eclipse?技術使束流均勻性達到 99.5%,在市場競爭中具有一定優(yōu)勢 。國內在注入機離子源配件領域發(fā)展時間相對較短,國產化比例不高,主要企業(yè)包括凱世通和中科信 。近年來,國內企業(yè)發(fā)展速度加快,凱世通研發(fā)的 28nm 工藝節(jié)點相關離子注入設備實現(xiàn)商業(yè)化,部分產品進入國內重點晶圓廠并獲得批量訂單,在低能大束流離子源配件細分市場逐步發(fā)展 。
綜合來看,注入機離子源配件市場存在發(fā)展空間,但也面臨挑戰(zhàn)。隨著半導體產業(yè)持續(xù)進步,其市場規(guī)模可能進一步擴大,國內企業(yè)在國產替代方面擁有發(fā)展機遇 。
